Fil:Bosch process sidewall.jpg
Det finns ingen version med högre upplösning.
Bosch_process_sidewall.jpg (712 × 484 pixlar, filstorlek: 203 kbyte, MIME-typ: image/jpeg)
|
Denna fil tillhandahålls av Wikimedia Commons. Informationen nedan är kopierad från dess filbeskrivningssida. |
Sammanfattning
| Beskrivning |
English: Scanning electron micrograph of the undulating sidewall of a silicon structure fabricated using photolithography and deep reactive-ion etching (Bosch process) |
| Datum | |
| Källa | Eget arbete |
| Skapare | Pgalajda |
Licensiering
|
Jag, upphovsrättsinnehavaren till detta verk, släpper detta verk i public domain. Detta gäller globalt. I vissa länder kan detta inte vara juridiskt möjligt; i så fall: Jag ger härmed envar rätten att använda detta verk för alla ändamål, utan några villkor, förutom villkor som lagen ställer. |
Filhistorik
Klicka på ett datum/klockslag för att se filen som den såg ut då.
| Datum/Tid | Miniatyrbild | Dimensioner | Användare | Kommentar | |
|---|---|---|---|---|---|
| nuvarande | 16 januari 2010 kl. 18.08 | | 712 × 484 (203 kbyte) | Pgalajda | {{Information |Description={{en|1=Scanning electron micrograph of the undulating sidewall of a silicon structure fabricated using photolithography and deep reactive-ion etching (Bosch process)}} |Source={{own}} |Author=Pgalajda |Date=200 |
Filanvändning
Följande sida använder den här filen:
Global filanvändning
Följande andra wikier använder denna fil:
- Användande på ca.wikipedia.org
- Användande på en.wikipedia.org
- Användande på fa.wikipedia.org
- Användande på www.wikidata.org
